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高壓放大器在多波長干涉相位同步解調方法研究中的應用

作者:Aigtek 閱讀數:0 發(fa)布(bu)時(shi)間:2023-02-01 00:00:00

  實驗名稱:基于激光相位分立調制的多波長干涉相位同步解調方法研究

  研究方向:激光測量

  測試目的:

  在長(chang)度測量(liang)中,絕對(dui)距離測量(liang)(ADM)可實現高精度、大范圍和瞬時距離測量,與相對位移測量(RDM)相比,不需要對干涉條紋進行連續計數即可實現精密測量,廣泛應用于高端裝備制造、大尺寸機械零部件的檢測和飛機裝配等領域。多波長干涉測量法是一種最基本的,也是應用最為廣泛的絕對距離測量方法,其中多波長對應干涉相位的精確解調是最為關鍵的問題之一。

  測試設備:ATA-2082高壓放大器、激光器、半波片、分光鏡、邁克爾遜干涉儀、測量角錐棱鏡、納米定位線性平臺、非接觸式電容式傳感器、反射鏡、光電探測器。

FDM雙波長干涉光路實驗裝置

  圖:FDM雙波長干涉光路實驗裝置

  實驗過程:

  以FDM雙波長干涉相位同步解調方法為例,對其進行了仿真分析及實驗驗證。搭建了所提出的FDM雙波長干涉測量光路,進行了系統穩定性實驗、納米級位移測量實驗、納米級步進非線性誤差實驗、兩位位移解調同步性實驗、動態相位解調實驗。

  由于側重于研究多波長干涉相位解調的性(xing)能,所以采用兩個(ge)自由空間(jian)的頻率穩定He-Ne激光器(632.991nm,633.429nm),主要通過納米位移測量等實驗分析相位解調的精度和非線性誤差。光路中采用兩個半波片(HWP)使激光光束的偏振方向與EOM的光軸(EO-PM-NR-C1,Thorlabs)成45°。采用兩個EOM對兩束激光以不同頻率進行相位調制后在分光鏡(BS)處合光。在邁克爾遜干涉儀中,測量角錐棱鏡(M2)安裝在納米定位線性平臺上。采用非接觸式電容式傳感器測量,線性平臺具有亞納米級分辨率和±1nm的可重復性,閉環行程范圍和線性誤差分別為15μm和0.03%。FDM干涉激光信號被反射鏡(R2)反射后由光電探測器探測。使用定制的基于FPGA的ADC&DAC開發板進行信號處理,包括生成相位調制信號,獲取FDM干涉信號和解調干涉相位。產生的相位調制信號由雙通道高壓放大器(ATA-2082,Aigtek)放大后用來驅動電光調制器EOM。相位調制信號和低通濾波器的設置與模擬信號相同(ω1=146kHz,ω2=195kHz,ωt=100Hz,ωL=49kHz)。通過調整高壓放大器的放大倍數,將兩個EOM的正弦相位調制深度均設置為約2rad。

  1、穩(wen)定性(xing)實驗

  為(wei)了測試FDM干涉相位同步解調系統在測量鏡M2靜止時,環境因素對兩路相位解調結果的影響,對EOM施加正弦加三角波復合調制,同時記錄兩路干涉信號解調相位的變化情況。實驗結果如圖2所示。

穩定性實驗結果

  圖2:穩定性實驗結果

  從圖(tu)2中可以看出:在1個小時內兩路相位變化約為70°,每分鐘約變化1.2°,對于干涉信號相位解調實驗,一般能夠在毫秒級時間內完成,上述目標漂移對多波長干涉測量結果的影響可忽略不計。

  2、步進測量實驗(yan)

  為了(le)測試(shi)FDM雙波長干涉相位同步解調系統在納米級范圍內位移測量精度。在實驗開始之前,先對光路進行微調,以保證光電檢測器能夠接收到正常的干涉信號。接著調節光電檢測器的增益旋鈕,以將位移測量信號的強度調至適當的大小。將測量鏡安裝在行程為15μm,重復定位精度為±1nm的P-753.1CD精密線性促動器上,從0開始使其以10nm的步長步進,步進到1μm,共100個點,導軌的步進速度設置為1μm/s。PC控制軟件對實驗過程中的解調位移和P-753.1CD精密線性促動器的位置進行了同步記錄。實驗結果如圖3、圖4所示。

第一路步進實驗結果

  圖(tu)3:第一路步進實驗結果

第二路步進實驗結果

  圖4:第二路步進實驗結果

  為了(le)清晰地觀(guan)察,位移(yi)測量數據分別(bie)向上平移(yi)2μm。研制系統的線性位移測量數據與P-753.1CD精密線性促動器的定位數據間的最大偏差分別為1.64nm、1.61nm,兩者都在±2nm范圍內,標準偏差分別為0.81nm、0.75nm,均在1nm范圍之內,說明FDM雙波長干涉相位同步解調系統能夠實現納米級的測量精度。

  3、非線性誤(wu)差測量實驗

  為了測試FDM雙波長干涉相位同步解調系統非線性誤差的大小,將測量鏡安裝在行程為15μm,重復定位精度為±1nm的P-753.1CD精密線性促動器上,從0開始使其以10nm的步長步進,步進到3μm,共300個點,導軌的步進速度設置為1μm/s。每一次步進,實時的導軌位置和解調位移值是被同時記錄的,直到測量結束,兩路位移解調的結果如圖5、圖6所示,其中圖5(a)、圖6(a)表示系統所解調的位移測量值、精密導軌的位置以及每次步進的誤差值,圖5(b)、圖6(b)是誤差值的FFT分析結果。

第一路非線性誤差測量和FFT分析結果

5:第一(yi)路(lu)非線性誤(wu)差測(ce)量和FFT分(fen)析結果

第二路非線性誤差測量和FFT分析結果

6:第二(er)路非(fei)線性誤差測量(liang)和FFT分析結果(guo)

  由于外部環境的變化,如溫度、CO2濃度等,此外P-753.1CD的運動方向與光束的方向也有一定的角度偏差,這些都使得位移解調結果具有線性誤差,但不是非線性誤差的范疇。所以圖5和圖6中表示的是去除了線性誤差之后的位移誤差。由于相位解調算法中的反正切操作,可能會引入周期為π的非線性誤差,因此如果相位解調出現非線性誤差,則會在二次諧波分量出現一個峰值。但是在圖5和圖6所示位移偏差的FFT分析中,二次諧波分量處兩個位移偏差的非線性誤差均小于0.3nm。在一階條紋(周期為2π)處的0.6nm的較大非線性誤差,是由實驗設置中PBS的偏振泄漏引入,而不是由相位解調系統引起,說明了FDM雙波長干涉相位同步解調系統具有較小的非線性誤差。

  4、兩(liang)路(lu)位移(yi)解(jie)調同步性實(shi)驗

  為(wei)了(le)測試FDM雙波長干涉相位同步解調系統中兩路相位解調的一致性。將測量鏡安裝在行程為15μm,重復定位精度為±1nm的P-753.1CD精密線性促動器上,從0開始使其以10nm的步長步進,步進到500nm,共50個點,導軌的步進速度設置為1μm/s。每一次步進,實時的導軌位置和解調位移值被同時記錄,直到測量結束,兩路位移解調的結果及其差值如圖7所示。

兩路相位解調同步性實驗

  圖7:兩路相位解調同步性實驗

  為了清(qing)晰(xi)地觀察,第一路的位(wei)移測量數據向(xiang)上平移200nm。圖中可以清晰看出,兩路解調位移偏差在±2nm范圍內,證明了FDM雙波長干涉相位解調系統中的兩路位移解調具有良好的同步性。

  5、動態相(xiang)位解調(diao)實驗

  為(wei)了(le)(le)測(ce)(ce)試系統動(dong)態相位同步檢測(ce)(ce)的性能(neng),實施了(le)(le)雙路的動(dong)態相位解調實驗。對(dui)于動(dong)態目標,總諧波(bo)失真(THD)為所有諧波的等效均方根(RMS)幅度與基頻幅度的比值,用于評估相位解調的非線性。由于THD分析要求輸入是單頻信號,因此施加正弦電壓以使測量鏡M2以30Hz的頻率在7rad的動態范圍內運動。以10kHz的速率同時記錄兩個解調相位,如圖8所示。根據圖9所示的THD分析結果,檢測到的相位1和相位2的基頻分別為29.91Hz和29.99Hz,THD分別為7.65%和7.70%,信噪比(SINAD)均為21.64dB,證明了所提出的動態相位同步檢測方案的可行性。

兩路正弦相位解調結果

  圖8:兩路正弦相位解調結果

THD分析結果

  圖9:THD分析結果

  實驗結果:

  在(zai)FDM雙波長干涉相位同步解調系統驗證實驗中:系統穩定性實驗結果良好,具備所需要的測量實驗條件;在納米位移測量實驗中,最大的步進誤差不超過±2nm,而標準偏差不大于1nm;通過納米級的非線性誤差測量實驗,證明了該方法的非線性誤差較小,在0.4nm以下;兩路位移解調同步性實驗中,兩路實時解調位移差值在±2nm范圍內,驗證了兩路相位解調具有較高的同步性;動態相位解調實驗中,施加線性變化的正弦電壓使測量鏡以30Hz的頻率在7rad的動態范圍進行移動,以10kHz的速率同時記錄兩個解調相位,檢測到的相位1和相位2的基頻分別為29.91Hz和29.99Hz,THD分別為7.65%和7.70%,SINAD均為21.64dB。通過上述實驗,驗證了FDM雙波長干涉相位解調系統具有良好的性能。

  安泰ATA-2082高壓放大器

ATA-2082高壓放大器指標參數

  圖:ATA-2082高壓放大器指標參數

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  本文實驗案例參考自知網論文《基于激(ji)光(guang)相位分立(li)調制(zhi)的多波長(chang)干(gan)涉相位同步解調方(fang)法研究(jiu)》


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