實驗名稱：高壓放大器基于掃描式固體腔(qiang)F-P干涉儀的設計與優化中的應用

實(shi)驗(yan)目的：優化設計掃描式固體腔F-P干涉儀

實(shi)驗設備：光(guang)源，準(zhun)直(zhi)擴束系統，待測電光(guang)晶(jing)體(ti)（包含驅動），4f系(xi)統(tong)和(he)CCD，信號源，ATA-2161高壓放大器，示波器。

實驗內容：為實現全(quan)天時邊(bian)界層內大氣溫(wen)度絕(jue)對(dui)探測，即精細獲取大氣Rayleigh散射譜形，借鑒F-P干涉濾波技術和晶體的電光特性，設計了一種掃描式固體腔F-P干涉儀，測試其濾波性能并進行優化。

實驗過程：如圖是搭建的(de)透射型馬赫曾德干涉儀光路，此(ci)光路用做全息圖的(de)記錄(lu)，主要(yao)包括以下幾個部分:光源，準直擴束系統，待測電光晶體（包含驅動）、4f系統和CCD。

測量晶體內部(bu)均勻性和折射率調制度關系(xi)的系(xi)統(tong)圖

電(dian)光晶體高(gao)壓驅(qu)動，函數發生器，使其產生一個(ge)脈沖方波(bo)信號，然(ran)后經過ATA-2161高壓放大器使其放大，最終把放大后的信號加載到晶體上，完成晶體電光性能的測試。  

電光晶體高(gao)壓(ya)模塊標定(ding)

實(shi)驗結果：

（1）不同電壓下CCD上記錄的全息圖

（2）不同電壓場下，對應晶體折射率的改變量

對圖相位圖中(zhong)晶(jing)體(ti)相位的改(gai)變(bian)量(liang)進(jin)行平(ping)均(jun)處理，得到不同電壓場下，對應(ying)的晶(jing)體(ti)的相位改(gai)變(bian)量(liang)，再由公式計(ji)算得出，不同電壓場下，對應(ying)晶(jing)體(ti)折射率的改(gai)變(bian)量(liang)。

相位調制和折射率調制度實測值與理論值的對比 

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